Маска схеми, виготовлена шляхом вакуумного посріблення, використовує хромовану плівку
Залишити повідомлення
Маска схеми, виготовлена шляхом вакуумного посріблення, використовує хромовану плівку
Покриття проти відблисків використовуються у великих кількостях для фотографії та лазерів усіх видів - аж до скла з покриттям великих вікон у нових будівлях, яке є дуже необхідним. Антиблікові покриття широко використовуються на лінзах фотоапаратів і телекамер.
Вакуумне покриття відіграє важливу роль в електроніці. Наступні схеми будь-якого розміру. Струмопровідна плівка, ізоляційна плівка та захисна плівка повинні використовуватися для пам’яті, арифметичного блоку та логічних елементів, що повідомляють. Хромована плівка використовується як маска для виготовлення схем. Магнітний потік, напівпровідниковий лазер на магнітному диску, пристрій Джозефсона, пристрій із зарядовим зв'язком (ПЗЗ) також використовують різні тонкі плівки.
Високочастотне магнетронне джерело живлення для вакуумного сріблення дороге, а швидкість розпилення дуже мала
Таким чином цільовий матеріал стає конденсатором в ізоляційному ланцюзі.
Однак джерело живлення високочастотного магнетронного розпилення дороге, швидкість розпилення дуже мала, а технологія заземлення дуже складна, тому її важко використовувати у великих масштабах. Для вирішення цієї проблеми було винайдено магнетронне реактивне розпилення. Тобто використання металевої мішені, додавання аргону та реактивного газу, такого як азот або кисень. Коли металева мішень
При ударі по деталі за рахунок перетворення енергії вона з'єднується з реакційноздатним газом з утворенням нітридів або оксидів.
Вакуумне сріблення Напилення металів і сплавів за допомогою магнетронних мішеней легко
Цільове джерело поділяється на збалансоване і незбалансоване. Збалансоване джерело мішені має рівномірне покриття, а покриття незбалансованого джерела мішені має сильну силу зв’язку з підкладкою. Збалансовані мішені в основному використовуються для напівпровідникових оптичних плівок, а незбалансовані мішені в основному використовуються для декоративних плівок.
Незалежно від рівноваги та нерівноважності, якщо магніт нерухомий, характеристики його магнітного поля визначають, що цільовий рівень використання зазвичай становить менше 30 відсотків. Щоб збільшити коефіцієнт використання матеріалу мішені, можна використовувати обертове магнітне поле. Однак обертове магнітне поле вимагає обертового механізму, і швидкість розпилення повинна бути зменшена в той же час. Обертові магнітні поля в основному використовуються для великих або дорогих
Важка мішень. Наприклад, напилення напівпровідникової плівки. Для невеликого обладнання та загального промислового обладнання часто використовується статичне джерело мішені магнітного поля.
За допомогою джерел магнетронної мішені легко напилювати метали та сплави, а займання та розпилення зручні. Це тому, що мішень (катод), плазма та вакуумна камера розпиленої частини можуть утворювати ланцюг. Але якщо напилення ізоляторів, таких як кераміка, ланцюг розривається.
www.superbheater.com
